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徠卡真空鍍膜儀是一種用于制備各種金屬材料薄膜的設(shè)備

更新時間:2023-03-14      點(diǎn)擊次數(shù):547
  徠卡真空鍍膜儀又稱真空蒸發(fā)鍍膜機(jī),是一種用于制備各種金屬膜、合金膜、化學(xué)氣相淀積(CVD)膜和物理氣相沉積(PVD)膜等材料薄膜的設(shè)備。工作原理基于物理氣相沉積法(PVD)。在真空狀態(tài)下,將所需的材料放置在鍍膜室內(nèi),加熱到一定溫度后,形成蒸汽或離子,并通過各種技術(shù)手段沉積在基底表面形成膜層。根據(jù)鍍膜過程中采用的材料、工藝參數(shù)和反應(yīng)條件等不同,可以制備出具有不同性質(zhì)、結(jié)構(gòu)和功能的薄膜材料。
 
  徠卡真空鍍膜儀適用于許多領(lǐng)域,包括但不限于以下幾個:
 
  1.在制造成像鏡頭、物鏡、反射鏡和濾光器等光學(xué)元件時,需要采用真空鍍膜技術(shù)。
 
  2.可以生產(chǎn)高質(zhì)量的金屬化薄膜,并用于玻璃、陶瓷、金屬等基材的鍍膜,從而提高這些材料的表面硬度、耐腐蝕性和反射率。
 
  3.該設(shè)備可以用于電子零部件和電路板的防腐蝕與導(dǎo)電保護(hù)鍍膜,以及制造薄膜太陽能電池和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)等電子產(chǎn)品。
 
  4.此設(shè)備可應(yīng)用于生產(chǎn)精密機(jī)械零部件的裝飾性涂層、防腐涂層等方面。
 
  5.聲學(xué)設(shè)備和內(nèi)外殼件等汽車零部件也可以通過徠卡真空鍍膜儀來鍍膜,使其具有高度的越南及法國現(xiàn)代經(jīng)濟(jì)性。
 
  徠卡真空鍍膜儀的工作過程包括以下幾個步驟:
 
  1.先需要將裝置的內(nèi)部抽成高真空狀態(tài),這樣可以防止雜質(zhì)的干擾以及影響鍍層質(zhì)量。
 
  2.將需要鍍的物質(zhì)加熱至其汽化溫度。通常會使用電阻加熱、電子槍、電弧等方式來實(shí)現(xiàn)。
 
  3.蒸發(fā)材料形成蒸汽,在真空中運(yùn)輸。
 
  4.沉積層。蒸汽在基板上冷凝,形成所需的薄膜層。
 
  5.監(jiān)測控制。通過在線監(jiān)測技術(shù),對鍍層厚度、均勻性、成分等進(jìn)行監(jiān)測和控制。
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